首頁 > SCI期刊 > SCIE期刊 > 工程技術(shù) > 中科院2區(qū) > JCRQ2 > 期刊介紹
評價信息：
影響因子：3.2
年發(fā)文量：366
《IEEE 信號處理快報》(Ieee Signal Processing Letters)是一本以工程技術(shù)-工程：電子與電氣綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商創(chuàng)刊于1994年，刊期Monthly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的重點研究和前沿進展，及時刊載和報道該領(lǐng)域的研究成果，致力于成為該領(lǐng)域同行進行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為3.2。CiteScore指數(shù)值為7.4。
The IEEE Signal Processing Letters is a monthly, archival publication designed to provide rapid dissemination of original, cutting-edge ideas and timely, significant contributions in signal, image, speech, language and audio processing. Papers published in the Letters can be presented within one year of their appearance in signal processing conferences such as ICASSP, GlobalSIP and ICIP, and also in several workshop organized by the Signal Processing Society.
《IEEE 信號處理快報》是一份月刊檔案出版物，旨在快速傳播信號、圖像、語音、語言和音頻處理領(lǐng)域的原創(chuàng)、前沿思想和及時、重大貢獻(xiàn)。在《快報》上發(fā)表的論文可以在一年內(nèi)發(fā)表在信號處理會議（如 ICASSP、GlobalSIP 和 ICIP）上，也可以在信號處理協(xié)會組織的幾次研討會上發(fā)表。
《Ieee Signal Processing Letters》(IEEE 信號處理快報)編輯部通訊方式為IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù)，您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年，熟悉發(fā)表政策，可為您提供一對一投稿指導(dǎo)，避免您在投稿時頻繁碰壁，節(jié)省您的寶貴時間，有效提升發(fā)表機率，確保SCI檢索（檢索不了全額退款）。我們視信譽為生命，多方面確保文章安全保密，在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。
2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) | 否 | 否 |
2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) | 否 | 否 |
2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) | 否 | 否 |
基礎(chǔ)版：即2019年12月17日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心期刊分區(qū)表》；將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。
升級版：即2020年1月13日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心期刊分區(qū)表升級版（試行）》,升級版采用了改進后的指標(biāo)方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進，影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素，也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個學(xué)科擴展至18個，科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始，分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果，不再有基礎(chǔ)版和升級版之分,基礎(chǔ)版和升級版（試行）將過渡共存三年時間。
JCR分區(qū)等級：Q2
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 130 / 352 |
63.2% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 122 / 354 |
65.68% |
| Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | 文章自引率 |
| 8.76% | 99.73% | 0.12... |
| 開源占比 | 出版國人文章占比 | OA被引用占比 |
| 0.10... | 0.35 | -- |
名詞解釋：JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細(xì)致劃分，JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置，從而幫助科研人員準(zhǔn)確識別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||||||||||
| 7.4 | 1.271 | 1.298 |
|
名詞解釋：CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus，適用于所有連續(xù)出版物，而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊，比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認(rèn)為是影響因子最有力的競爭對手。
歷年中科院分區(qū)趨勢圖
歷年IF值(影響因子)
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量
歷年自引數(shù)據(jù)
2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| CHINA MAINLAND | 553 |
| USA | 228 |
| South Korea | 72 |
| India | 68 |
| France | 67 |
| England | 52 |
| Australia | 39 |
| Canada | 39 |
| Italy | 34 |
| Japan | 33 |
2019-2021年機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計
| 機構(gòu) | 數(shù)量 |
| CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 57 |
| TSINGHUA UNIVERSITY | 36 |
| UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHN... | 36 |
| INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (I... | 31 |
| XIDIAN UNIVERSITY | 28 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF... | 25 |
| NORTHWESTERN POLYTECHNICAL UNIVERSITY | 25 |
| SOUTHEAST UNIVERSITY - CHINA | 21 |
| AALTO UNIVERSITY | 20 |
| BEIJING INSTITUTE OF TECHNOLOGY | 20 |
2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| Additive Margin Softmax for Face Verific... | 65 |
| Off-Grid Direction-of-Arrival Estimation... | 44 |
| Emerging From Water: Underwater Image Co... | 38 |
| 3-D Convolutional Recurrent Neural Netwo... | 31 |
| Delay Minimization for NOMA-MEC Offloadi... | 31 |
| Medical Image Fusion via Convolutional S... | 25 |
| AUV-Aided Joint Localization and Time Sy... | 24 |
| Deep Coupled ResNet for Low-Resolution F... | 21 |
| MS-CapsNet: A Novel Multi-Scale Capsule ... | 21 |
| Deep Shrinkage Convolutional Neural Netw... | 18 |
2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| IEEE ACCESS | 1347 |
| IEEE SIGNAL PROC LET | 435 |
| IEEE T SIGNAL PROCES | 347 |
| MULTIMED TOOLS APPL | 347 |
| SIGNAL PROCESS | 313 |
| SENSORS-BASEL | 293 |
| DIGIT SIGNAL PROCESS | 186 |
| IEEE T VEH TECHNOL | 171 |
| IEEE T IMAGE PROCESS | 166 |
| IEEE T COMMUN | 164 |
2019-2021年引用數(shù)據(jù)
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| IEEE T SIGNAL PROCES | 858 |
| IEEE SIGNAL PROC LET | 435 |
| IEEE T IMAGE PROCESS | 386 |
| IEEE T INFORM THEORY | 274 |
| IEEE T PATTERN ANAL | 194 |
| SIGNAL PROCESS | 145 |
| IEEE T AERO ELEC SYS | 131 |
| IEEE T WIREL COMMUN | 127 |
| IEEE SIGNAL PROC MAG | 107 |
| IEEE T COMMUN | 85 |
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：7.7
審稿周期：約Time to first decision: 9 days; Review time: 64 days; Submission to acceptance: 82 days; 約2.7個月 約7.8周
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：8.1
審稿周期：約Time to first decision: 6 days; Review time: 44 days; Submission to acceptance: 54 days; 約4.1個月 約6.8周
中科院分區(qū)：3區(qū)
影響因子：3.3
審稿周期：約17.72天 11 Weeks
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：98.4
審稿周期： 約3月
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.8
審稿周期： 約2.4個月 約7.6周
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.1
審稿周期： 約1.9個月 約2.7周
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。
